秋月ファンクラブ掲示板 過去ログ
Capacitive-based galvanic isolation vs. optocoupler technology - chy_farm
2014/06/03 (Tue) 09:47
お世話になります。
表題のような記事が配信されました。
Capacitive-based galvanic isolation vs. optocoupler technology ? who wins?
http://e2e.ti.com/blogs_/b/analogwire/archive/2014/05/16/capacitive-based-
galvanic-isolation-vs-optocoupler-technology-who-wins.aspx?DCMP=hpa-int-ii
f&HQS=hpa-int-iif-awire-20140516-myti-en
inara1さんに以前オプトカプラーの使い方でお世話になったの、ここで言う
「Capacitive-based galvanic isolation」についてinara1さんがご存じだったら
教えてもらおうと思いました。
ご存じでしたら教えてください！
Re: Capacitive-based galvanic isolation vs. optocoupler technology - inara1
2014/06/03 (Tue) 18:08
Capacitive-based galvanic isolationは、コンデンサで直流をカットしてAC（パ
ルス）信号だけを伝送する絶縁方法のようですが、古くからある技術だと思いま
す。
TIの技術資料（http://www.ti.com/lit/an/slla284/slla284.pdf）のFigure 1にそ
の一例が出ています。Isolation Barrierと書かれたコンデンサによってDC信号は
絶縁されますが、パルス信号はコンデンサを通るので信号伝達ができます。このコ
ンデンサはSiチップ上に形成されたSiO2でできているので集積化が容易（小型化が
容易）というのが特徴のようです。
信号をパルス幅変調させれば、DCや低周波のアナログ信号も扱えます（Figure 1の
上半分の回路）。信号が高周波ならそのまま伝送できます（Figure 1の下半分の回
路）。
フォトカプラでは、LEDとPDの間を透明な樹脂で埋めることによって、光は伝達さ
れますが電気的には絶縁されています。フォトカプラの場合は、充分な絶縁耐圧を
得るために、LEDとPD間の距離をある程度大きくしなければならないために、デバ
イス全体が比較的大きくなりますが、TIの構造だとかさ張らないということのよう
です。
Re: Capacitive-based galvanic isolation vs. optocoupler technology - chy_farm
2014/06/03 (Tue) 22:20
小さいのに耐圧がある、ということでしたら、どういう用途に使うと効果が発揮さ
れるのですか？